精于毫厘,成就芯片:晶圆减薄与划片解决方案
0精于毫厘,成就芯片:HyperSemi 晶圆减薄与划片解决方案
在半导体制造的后道关键工序中,晶圆的减薄与划片直接决定了芯片的物理强度、封装良率与最终性能。HyperSemi凭借先进的工艺设备、深厚的经验积累与严格的质量控制,为客户提供高精度、高可靠性的晶圆减薄(Wafer Thinning)与划片(Dicing)加工服务,是您从晶圆到芯片(Wafer to Die)值得信赖的伙伴。
核心工艺详解
1. 晶圆减薄加工服务
随着移动设备、穿戴式电子产品对轻薄短小的极致追求,以及三维堆叠(3D IC)等先进封装技术的发展,晶圆减薄已成为不可或缺的环节。我们将您的晶圆研磨至所需的精确厚度,同时最大化保持其机械完整性与电学特性。
工艺范围:我们可处理6英寸、8英寸及12英寸晶圆,常规减薄厚度范围从100μm至500μm,并对特定需求提供超薄减薄能力(如50μm以下),满足最严苛的先进封装需求。
技术要点:
临时键合/解键合:对于超薄晶圆,我们采用先进的临时键合与解键合系统,使用紫外光或热滑移等工艺,在减薄和背面金属化过程中为脆弱晶圆提供坚实支撑,确保高良率。
阶梯减薄与背面金属化:我们可实现晶圆背面的局部阶梯减薄,并为需要背面接地的器件提供高质量的背面金属化(如金、银、铜)服务。
应力控制:通过优化研磨参数、采用精抛光(CMP)或干式抛光(Dry Polish)等工艺,有效减少减薄后晶圆表面的机械应力与微裂纹,提升芯片的机械强度与长期可靠性。
2. 晶圆划片加工服务
划片是将整片晶圆分离成单个独立芯片(Die)的关键步骤。划片质量直接影响芯片的边缘完整性、崩边(Chipping)程度以及后续贴装的良率。
切割技术:
刀片切割(Blade Dicing):对于大多数材料(如硅、砷化镓),我们使用高精度金刚石刀片进行切割。通过优化刀片型号、转速、进给速度及冷却液参数,我们将崩边尺寸控制在极低水平(通常<10μm)。
激光切割(Laser Dicing):对于易碎材料(如玻璃、蓝宝石、低k介质晶圆)、需要隐形切割(Stealth Dicing)或超窄街道的应用,我们提供先进的激光切割方案。该技术热影响区小,能实现更洁净的切割面,尤其适合对崩边和污染极度敏感的高端器件。
贴膜与清洗:我们提供专业的晶圆贴膜(Dicing Tape)与划片后清洗服务,确保芯片在运输和拾取前的洁净度与稳定性。
我们的核心优势
超薄加工与无损伤划片:具备成熟的超薄晶圆(<100μm)全流程处理能力,配合优化的切割工艺,实现近乎“零损伤”的芯片分离。
全流程自主工艺控制:从来料检验、工艺参数设定到最终出货检验,全流程自主控制,确保工艺一致性与可追溯性。
定制化服务方案:我们理解每款芯片的独特性。工程师团队将与您密切沟通,根据您的芯片材质、结构、厚度及最终应用,量身定制最优的减薄与划片工艺方案。
快速响应与专业支持:我们提供灵活的服务周期和透明的进度沟通,专业的工艺工程师团队随时为您提供技术咨询与问题解决方案。
品质保障体系
我们所有的加工作业均在高标准洁净室中进行。采用在线检测系统对关键尺寸(厚度、TTV)、表面缺陷及崩边进行实时监控,并实施严格的统计过程控制(SPC),确保每一片托付于我们的晶圆都能获得稳定、高品质的加工结果。
应用领域:移动通信芯片、功率器件、MEMS传感器、射频器件、 CIS图像传感器、存储芯片及各类先进封装(Flip-Chip, Fan-Out, 3D IC)产品。
欢迎联系我们的工艺服务团队,获取详细的技术资料与报价,让我们以精密的工艺,守护您芯片的卓越价值。
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